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DESIGN PARA ESTAMPARIA

DESIGN PARA ESTAMPARIA - VERÃO 2012

com Monica Schoenacker

Curso teórico-prático sobre estamparia corrida e localizada. Noções básicas de estamparia para o desenvolvimento de uma linguagem gráfica aplicada ao design de superfície. Subsídios técnicos para o desenvolvimento de projetos têxteis adequados aos diversos métodos de estamparia.

Assista ao video relacionado:

Este curso foi realizado entre os dias 16/01/2012 e 20/01/2012
No periodo das 10:00 às 13:00

O aluno será instrumentalizado com referências teóricas e praticas através da apresentação de materiais e métodos para a produção de estampas localizadas e corridas, buscando estimular o uso da indumentária como suporte de comunicação.

O design de superfície tem se apresentado como um diferencial na indústria da moda, arquitetura e design de produto em geral. O profissional que pretende trabalhar com imagens aplicadas a superfícies têxteis e/ou revestimentos em geral deve ser contextualizado ao universo gráfico do design de superfície contemporâneo e instrumentalizado tecnicamente para o desenvolvimento de projetos gráficos adequados.


Conteúdo do curso 

  • Contextualização, introdução ao vocabulário e a linguagem gráfica do design de superfície.
  • A presença da estamparia na moda hoje.
  • Subsídios técnicos para o desenvolvimento de projetos têxteis adequados aos diversos métodos de produção industrial na estamparia.
  • Estampa localizada: tintas e efeitos, separação de cor
  • Estampa corrida: técnicas de rapportagem
  • A presença da Estamparia digital: suas possibilidades técnicas e gráficas
  • Desenvolvimento de um projeto de estamparia baseado nas referencias pessoais dos alunos.

Seqüências de aulas com conteúdo teórico e exercícios práticos e culminando na elaboração de um projeto individual de design de superfície.

Cada aula contará com exposição teórica, mostra de referencias do trabalho de diferentes designers têxteis contemporâneos e demonstração técnica pertinente ao assunto da referida aula.

A parte teórica contará com projeções de imagens PowerPoint, apresentação de bandeiras de tecidos impressos nas diferentes técnicas de estamparia, e discussão sobre o trabalho dos alunos.


Plano de Aulas:

Aula 1 

  • Conteúdo: apresentação do curso, e dos participantes (professor e alunos), Contextualização, A presença da estamparia na moda hoje.
  • Atividade: Aula expositiva, discussão sobre estamparia, apresentação de bandeiras de estampas localizadas e corridas e apresentação PowerPoint com exemplos de estampas contemporâneas.
  • Referências: Cavalera, Capim Puro, Basso and Brooke. Mary Katrantzou, Marimekko, UDALE, Jenny, Tecidos e moda, BOOKMAN COMPANHIA EDITORA, São Paulo, SP 2009 Link: http://www.genesistintas.com.br/passoapasso.php

Aula 2 

  • Conteúdo: Metodologia visual para o desenvolvimento de motivos. Estampa localizada, separação de cores para estamparia a quadro.
  • Atividade: Apresentação Power point sobre metodologia visual aplicada ao desenvolvimento de estampas. Noções básicas de separação de cor para estamparia a quadro.
    Exercício 1: Estampa localizada a transformação de um desenho a traço em uma estampa localizada, separação de cores.
  • Referências: FERNÀNDEZ Angel, Fashion Print design, A&C Black, London UK, 2009

Aula 3 

  • Conteúdo: Subsídios técnicos para o desenvolvimento de projetos têxteis adequados aos diversos métodos de produção industrial na estamparia. Estampas fotográficas para impressão digital.Captação de imagens para desenvolvimento de estampas corridas no adobe photoshop.
  • Atividade: Apresentação Power point sobre técnicas de impressão em estamparia têxtil. Apresentação Power point de estampas fotográficas ex; basso and Brooke, Mary Katrantzou, e Desigual como referencia gráfica para exercício 2.
    Exercício 2: Captação fotográfica de imagens, pesquisa de padrões e módulos de repetição no entorno da escola (maquina fotográfica individual como pré requisito) Exercício de captação de imagem para discussão de conceitos como: Ritmo e equilíbrio, escala, textura, cor, figura e fundo, enquadramento, modularidade, grid e padronagem.
  • Referências: LUPTON Ellen Novos fundamentos do design, COSSAC NAIFY, São Paulo, SP 2008
    Link: http://www.bassoandbrooke.com/
    http://www.capimpuro.com/

Aula 4 

  • Conteúdo: Rapportagem, colocando uma imagem em repetição.
  • Atividade: Apresentação Multimídia sobre princípios de rapportagem. Desenvolvimento de um modulo de repetição para uma estampa corrida usando as imagens captadas individualmente no exercício 2. Desenvolvimento da proposta e atendimento aos projetos individuais. Trabalho nos projetos individuais no computador
  • Referências: UDALE, Jenny, Tecidos e moda, BOOKMAN COMPANHIA EDITORA, São Paulo, SP 2009

Aula 5 

  • Conteúdo: Rapportagem, colocando outras imagens em repetição. Variantes de cor. Atendimento. Análise dos resultados. Indicação de Fornecedores.
  • Atividade: Apresentação Multimídia sobre rapportagem e variante de cor. Finalização dos projetos individuais no computador.Atendimento.

Outros links sugeridos

  • http://www.bassoandbrooke.com/
  • http://www.eleykishimoto.com
  • http://www.marykatrantzou.com
  • http://www.waltervanbeirendonck.com/
  • http://www.desigual.com/#/home/
  • http://www.andreacrews.com

Curso Teórico

Nível: Básico

Pré-requisito: Conhecimento básico da plataforma ADOBE (Photoshop e Illustrator)

Público Alvo:Estudantes de Moda, designers gráficos, artistas plásticos, pessoas com interesse em design de superfície.


Material necessário para o aluno levar nas aulas:

  • Maquina fotográfica digital
  • Notebook com Photoshop e Illustrator
  • Canetas Hidrográficas sketch book
  • 4 folhas de papel vegetal

O material de apoio das aulas será enviado por email pela Secretaria Escolar para um melhor aproveitamento do curso. A impressão é opcional, salvo a solicitação do professor.


A Escola São Paulo poderá alterar datas e horários ou cancelar os cursos, de acordo com o número de interessados. Em caso de imprevisto com o professor, poderá haver substituição, a critério da Escola São Paulo, sem alteração do programa. No decorrer do curso, algumas aulas poderão ser abertas para inscrições avulsas.


Verifique com a Secretaria Escolar os feriados e emendas que podem coincidir com o calendário do curso.


Professora:


Monica Schoenacker
Monica Schoenacker

Artista plástica tem trabalhado na interface da imagem digital e imagem impressa, com foco na serigrafia sobre papéis e têxteis Atualmente é responsável pela disciplina estamparia I no curso de Design de moda no Unicentro Belas Artes e no Centro Universitário SENAC. Ministrou na Fundação Armando Álvares Penteado FAAP (de 2000 a 2009) a disciplina Serigrafia no curso de Artes plásticas e Laboratório Experimental Gráfico no curso de desenho industrial. Prestou consultoria em estamparia e variantes de cor na marca de street wear CAVALERA de 2007 a 2009. Em 1997 Ganhou o premio Icatú de Artes e foi artista residente na Citè Internationnale des Arts em Paris em 1996, fez Mestrado em printmaking no Royal College of Art de 1997 a 1999, como bolsista da Capes.

Portfólio e currículo disponível no site, favor consultar Fine arts www.foradeserie.art.br


Foto: Flickr